TOKYO–(BUSINESS WIRE)–JSR Corporation ha annunciato oggi l’accelerazione dell’attività di sviluppo congiunto con SK hynix Inc. finalizzata all’applicazione di Inpria, un resistore a ossido di metallo (metal oxide resist, MOR) per litografia ultravioletta estrema (Extreme Ultraviolet, EUV) realizzato da JSR per la produzione di chip avanzati per DRAM. La piattaforma per resistori a ossido di metallo per EUV di Inpria, coperta da un ampio brevetto, consente ai clienti di realizzare in modo efficiente architetture avanzate di dispositivi (nodi).
Le soluzioni di materiali Inpria offrono le prestazioni necessarie per ridurre in modo significativo i costi di serializzazione dei resistori EUV e sono compatibili con processi comprovati e configurazioni di apparecchiature. La MOR di Inpria può essere utilizzata nell’ambito dei processi standard di rivestimento per rotazione.
“La produzione EUV è complessa e richiede materiali all’avanguardia” ha dichiarato BK Lee, responsabile delle attività di ricerca e sviluppo presso SK hynix.
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